服务热线:13851414676
实验室污水处理设备、膜分离设备
· 设为首页 · 加入收藏
News
IndustryNews
Article
   首页 > 新闻中心 >
硅片清洗的部分方法
双击自动滚屏 发布者: admin 发布时间:2012/2/9 21:46:56 阅读:252次 【字体:

               硅片清洗的部分方法

一RCA清洗法
RCA由Werner Kern于1965年在N.J.Princeton的RCA实验室首创, 并由此得名。RCA清洗是一种典型湿式化学清洗, 在各种清洗方法中仍占主导地位。国内外已有多篇文章用不同的分析方法证实了RCA有效性。RCA清洗主要用于清除有机表面膜、粒子和金属沾污。该清洗方法存在诸多弊端如硅片表面清洗涉及到许多化学试剂其处理均在高温过程中进行, 要消耗大量的液体化学品和超纯水同时要消耗大量空气来抑制化学品蒸发,使之不扩散到洁净室由于化学试剂的作用, 加大了硅片的粗糙度.
二机械刷片法
刷片方法被认为是去除化学机械抛光液残余物的方法之一。早期的尼龙刷子和高压水溅射对硅片有很大的损坏。后来用PVA聚乙烯醇支撑的刷子可以不算还硅片表面并达到去除颗粒的效果。但是刷片方法也存在一些缺点, 比如保存时间短且逐片刷洗效率很低刷子凹槽内颗粒对表面有划伤可能设备也比较昂贵对去除硅片表面的金属杂质沾污没有作用在机械刷洗过程中, 抛光片表面去除颗粒的同时, 又被刷洗液中的金属杂质沾污抛光片会受到刷子的污染, 这对提高抛光片表面质量很不利。
三超声波清洗
超声波清洗是半导体工业中广泛应用的一种清洗方法。超声波清洗的主要机理是超声波空化效应、辐射压和声流。超声波清洗具有清洗速度快、质量高, 不受清洗件表面复杂形状的限制, 易于实现遥控和自动化的优点。但也存在着缺点超声波清洗时所用的乙醇、丙酮、三氯乙烯等有机溶剂, 易挥发, 成本高, 需加回收等设备超声波主要除去大颖粒,随着颗粒尺寸的减小, 清洗效果下降。

参考资料:南京权坤生物科技有限公司

 
 
电化学分析仪器 实验室污水处理设备 实验室污水处理设备 膜分离设备
南京轩科环保科技有限公司 2016 版权所有 苏ICP备15038388号 Copyright by Nanjing Xuan Ke Environmental Protection Technology Co., Ltd.
地址:南京市沿江工业开发区 24小时技术支持:13851414676 电话:025-66153658 传真:025-66153658
网站地图-网站地图xml-技术支持:南京轩科 实验室污水处理设备 膜分离设备 苏ICP备16036958号-1